粉末冶金镀膜靶材

    粉末冶金镀膜靶材主要采用热等静压工艺和热压烧结工艺生产。产品种类包括铬、铌、钒等单质靶材，钛铝、铝钛、铝铬、钛硅、硅铝、铬硅、镍铬、铝钛硅、铝铬硅、铝铬硅钨、铝钛钨铌硅等合金靶材以及碳化钨、硼化钛等陶瓷靶材。产品形状包括矩形靶、圆弧靶、环形靶和大长径比整体成形管靶等类型。产品纯度涵盖99.5%、99.8%、99.9%、99.95%等。靶材产品具有纯度、密度和氧含量可控，成分和显微组织分布均匀、使用寿命长等优点，广泛应用于装饰涂层镀膜、活塞环镀膜、硬质涂层镀膜、光学镀膜等领域。

产品指标
1、纯度99.5%-99.95%
2、晶粒度≤100μm
3、热膨胀系数8×10-6
4、密度≥7.12g/cm³
5、热导率60W/M•K
6、规格尺寸 平面靶≤1500×500mm

技术特点：
1、靶材产品具有自主知识产权，累计申请专利9项，获得授权8项。
2、靶材产品具有纯度、密度和氧含量可控，成分和显微组织分布均匀、利用率高、使用寿命长等优点，靶材成分比例、尺寸可按照客户要求定制生产。

应用案例
    靶材产品作为业内高技术产品代表，已与某光学公司等两家业内知名科技企业达成长期稳定合作，形成战略合作伙伴关系，近年来合作规模日益扩大。在装饰镀膜、工具镀膜、光学镀膜等领域运用广泛，是业内知名企业的核心供应商，具有多年长期稳定的合作关系。